Plasma d’arc : Instabilités contrôlées et dépôts nanostructurés

Plasma d’arc : Instabilités contrôlées et dépôts nanostructurés

La projection plasma de liquide en mode pulsé est développée au moyen d’un plasma d’arc pulsé associé à une injection synchrone d’encres céramiques. La modulation des caractéristiques courant/tension d’un plasma d’arc de faible puissance permet de contrôler les propriétés du plasma. Cette modulation, synchronisée avec l’injection de gouttelettes produites dans une tête jet d’encre1, conduit à une meilleure maitrise des interactions plasmas/matériaux. Des dépôts céramiques nanostructurés contenant des particules micrométriques ont été obtenus.

1Mavier F, Zoubian F, Bienia M, Coudert JF, Lejeune M, Rat V and André P, 2018 Plasma Spraying of Solution Precursor in Pulsed Mode: In-Flight Phenomena and Coating Deposition Plasma Chem Plasma Process 38 657–682

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